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離子束濺射系統(tǒng)

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標(biāo)簽：磁控濺射系統(tǒng)價(jià)格

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  • [公司新聞] 磁控濺射系統(tǒng)靶中毒的現(xiàn)象和解決辦法

    一：磁控濺射系統(tǒng)靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。（2）陽極消失：靶中毒時(shí)，接地
    發(fā)布時(shí)間：2022-11-21   點(diǎn)擊次數(shù)：42

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)靶中毒的影響因素

    磁控濺射系統(tǒng)靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必需有傳導(dǎo)出去的途徑，否則，該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)
    發(fā)布時(shí)間：2022-11-21   點(diǎn)擊次數(shù)：29

  • [公司新聞] 磁控濺射系統(tǒng)的環(huán)保特性

    磁控濺射系統(tǒng)能夠有效的提高產(chǎn)品的質(zhì)量，特別是使用在一些金屬材質(zhì)上的時(shí)候，其不僅能夠讓其具備絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。在目前的市場(chǎng)中磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備適用于電子、機(jī)械、建筑和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層市場(chǎng)的很大一部分份額。該設(shè)備是對(duì)
    發(fā)布時(shí)間：2022-10-28   點(diǎn)擊次數(shù)：30

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)在裝修領(lǐng)域的應(yīng)用

    當(dāng)磁控濺射系統(tǒng)入射離子的能量低于某一臨界值(閥值)時(shí)，不會(huì)產(chǎn)生濺射;濺射原子的能量比蒸騰原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時(shí)，濺射原子角分布就不完全符合余弦分布規(guī)則。角分布還與入射離子方向有關(guān)。從單晶靶濺射出來的原子趨向于集中在晶體密度
    發(fā)布時(shí)間：2022-10-28   點(diǎn)擊次數(shù)：35

  • [公司新聞] 磁控濺射系統(tǒng)的常見故障及解決辦法

    磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射系統(tǒng)通過在靶陰極外表引入磁場(chǎng)，使用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法1.無法起輝（1）直流電源毛病，查
    發(fā)布時(shí)間：2022-08-16   點(diǎn)擊次數(shù)：33

  • [常見問題] 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)廠家為你講解磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的原理是什么：濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在反常輝光放電發(fā)生的等離子體在電場(chǎng)的效果下，對(duì)陰極靶材外表進(jìn)行炮擊，把靶材外表的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有必定的動(dòng)能，沿必定的
    發(fā)布時(shí)間：2022-06-14   點(diǎn)擊次數(shù)：37

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)是怎樣提高沉積速率的？

    磁控濺射系統(tǒng)提高沉積速率的原理：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速
    發(fā)布時(shí)間：2021-06-04   點(diǎn)擊次數(shù)：55

  • [行業(yè)新聞] 鍍膜機(jī)日常需要維護(hù)檢修時(shí)應(yīng)當(dāng)特別注意的常見問題

    磁控濺射鍍膜儀日常需求保護(hù)檢修時(shí)應(yīng)當(dāng)特別注意的常見問題，在操作鍍膜機(jī)的時(shí)分鍍膜時(shí)機(jī)出現(xiàn)一部分受損，這時(shí)分咱們就需求對(duì)其進(jìn)行保護(hù)檢修，在對(duì)其進(jìn)行保護(hù)檢修的時(shí)分要特別注意一部分常見問題，接下來就讓咱們一起來看看?！　?、例行保護(hù)保養(yǎng)機(jī)器設(shè)備中察
    發(fā)布時(shí)間：2020-04-20   點(diǎn)擊次數(shù)：82

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜均勻性是一項(xiàng)重要指標(biāo)

    真空行業(yè)的從業(yè)者都知道,磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜均勻性是一項(xiàng)重要的目標(biāo)，均勻性好的鍍膜機(jī),鍍出優(yōu)秀的膜層慨率也就高許多,一起也降低了本錢,這是每個(gè)企業(yè)老板所希望的。因此,客戶在采購設(shè)備的時(shí)候,分外的關(guān)注鍍膜機(jī)均勻性問題,這個(gè)問題也是談
    發(fā)布時(shí)間：2021-03-31   點(diǎn)擊次數(shù)：241

  • [行業(yè)新聞] 運(yùn)用磁控濺射鍍膜儀設(shè)備對(duì)環(huán)境有什么要求嗎？

    運(yùn)用磁控濺射鍍膜儀設(shè)備對(duì)環(huán)境有什么要求嗎？由于要在特定條件下，因而磁控濺射鍍膜儀設(shè)備要滿意真空對(duì)環(huán)境的要求。擬定的各種磁控濺射鍍膜儀的行業(yè)規(guī)范(包括磁控濺射鍍膜設(shè)備通用技能條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)
    發(fā)布時(shí)間：2020-04-08   點(diǎn)擊次數(shù)：70

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射鍍膜常見故障及解決辦法

    磁控濺射是物理氣相堆積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種,磁控濺射系統(tǒng)通過在靶陰極外表引入磁場(chǎng)，使用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？磁
    發(fā)布時(shí)間：2020-03-24   點(diǎn)擊次數(shù)：517

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射鍍膜膜厚均勻性設(shè)計(jì)方法

    磁控濺射系統(tǒng)是現(xiàn)代工業(yè)中不可短少的技能之一，磁控濺射鍍膜技能正廣泛使用于通明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝修膜，在國防和國民經(jīng)濟(jì)出產(chǎn)中的效果和位置日益強(qiáng)大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性，堆積速率
    發(fā)布時(shí)間：2020-02-24   點(diǎn)擊次數(shù)：111

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)的特點(diǎn)！

    磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射系統(tǒng)廠家?guī)懔私飧啵〈趴貫R射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-25   點(diǎn)擊次數(shù)：101

  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)的工作原理！

    磁控濺射系統(tǒng)的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程
    發(fā)布時(shí)間：2019-06-03   點(diǎn)擊次數(shù)：128

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