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離子束濺射系統(tǒng)

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  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)的工作原理

    磁控濺射系統(tǒng)的作業(yè)原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片進(jìn)程中與氬原子產(chǎn)生磕碰，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰ji靶，并以高能量炮擊靶表面，使靶材產(chǎn)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分
    發(fā)布時間：2021-08-24   點(diǎn)擊次數(shù)：67

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