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離子束濺射系統(tǒng)

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重慶四室聯(lián)合系統(tǒng)

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  • 詳細(xì)介紹

四室聯(lián)合系統(tǒng)

四室聯(lián)合系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng), 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導(dǎo)體、 介質(zhì)復(fù)合膜等。 廣泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片臺(tái)(客戶自備)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成;

◆技術(shù)指標(biāo)

1、極限真空度:≤5.0x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

3、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_始抽氣,40分鐘可達(dá)到6.0x10-4 Pa;

4、停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤2 Pa。

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