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YJL單室離子束鍍膜設(shè)備
◆設(shè)備用途
該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng), 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質(zhì)復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。
◆技術(shù)指標
1、極限真空度:≤8.0×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后);
2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停機12小時≤5Pa.
3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,45分鐘可達到6.6×10-4Pa;
4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成。
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