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離子束濺射系統(tǒng)

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杭州臥式磁控濺射系統(tǒng)

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  • 詳細介紹

臥式磁控濺射系統(tǒng)

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◆設備用途

用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

本文網址:http://www.bjyhcx.cn/product/632.html

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