沈陽宇杰真空設備有限公司
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地址：遼寧省沈陽市沈河區(qū)泉園街道
◆設備用途
該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng)， 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設備組成
系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。
◆技術指標
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網格表面親水化）
zhuanli設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度
可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
觸摸屏控制，簡單方便
真空度≤7×10 -3 mbar
濺射電流：0-150mA可調
方形樣品倉zhuanli設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm
