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離子束濺射系統(tǒng)

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行業(yè)新聞

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  • 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的原理是什么？

    濺射鍍膜的原理是在電場的作用下，由異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體被轟擊在陰極靶的表面上，并且靶表面上的分子，原子，離子和電子被濺射并濺起。所發(fā)射的顆粒具有一定的動能，并且沿一定的方向被導(dǎo)向基板的外表面，以在基板的表面上形成鍍層。
    發(fā)布時間：2019-10-16   

  • 磁控濺射主要用途有哪些？

    磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更
    發(fā)布時間：2019-10-14   

  • 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易！

    用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。等離子體濺射的基本
    發(fā)布時間：2019-09-27   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的特點！

    磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射系統(tǒng)廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場
    發(fā)布時間：2019-09-25   

  • 磁控濺射鍍膜儀的優(yōu)點！

    磁控濺射技術(shù)在建材、裝飾、光學(xué)、防腐蝕、工磨具強化等領(lǐng)域得到比較廣泛的應(yīng)用,利用磁控濺射技術(shù)進行光電、光熱、磁學(xué)、超導(dǎo)、介質(zhì)、催化等功能薄膜制備是當(dāng)前研究的熱點。磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多
    發(fā)布時間：2019-09-19   

  • 磁控濺射鍍膜儀的作用！

    真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞
    發(fā)布時間：2019-09-18   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)！

    磁控濺射鍍膜技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點已經(jīng)成為制備薄膜的主要技術(shù)之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區(qū)域的分布，顯著提高了薄膜的質(zhì)量。中頻濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展有效克服了反應(yīng)濺射過程中出現(xiàn)的打弧現(xiàn)象，減少了薄膜的結(jié)構(gòu)缺陷，明顯提高了薄膜的沉積速率。磁控
    發(fā)布時間：2019-09-15   

  • 濺射鍍膜過程是什么？

    鍍膜織物膜基結(jié)合力與其表面鈦膜的耐磨性密切相關(guān)，鈦膜耐磨性越好，膜基結(jié)合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即為離線鍍膜玻璃，是在平板玻璃出廠后，再進行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿足光學(xué)透射率、反射率、耐磨性能、抗化學(xué)腐蝕性能等理化指標，還要保證
    發(fā)布時間：2019-09-12   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用！

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用?
    發(fā)布時間：2019-09-10   

  • 真空鍍膜主要是為了減少反射!

    磁控濺射技術(shù)是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術(shù)，該技術(shù)實現(xiàn)了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜，具有高速、低溫、低損傷的特點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都
    發(fā)布時間：2019-09-06   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理！

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵∮么趴匕性礊R射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這
    發(fā)布時間：2019-08-31   

  • 磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)！

    磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息儲存、液晶存儲、液晶顯示器、電子控制器件等，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、化學(xué)電鍍、金屬泡沫材料、裝飾用品等行業(yè)。磁控濺射系統(tǒng)哪家好？磁控濺射靶材的制備技術(shù)方法
    發(fā)布時間：2019-08-13   

  • 磁控靶源濺射金屬和合金很容易!

    在濺射鍍膜中盡量抑制油蒸汽的污染的必要性應(yīng)是無可爭議的。為了保證每個濺射室能在獨立的氣氛下工作,相鄰的濺射室之間應(yīng)采取氣氛隔離措施。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的輝光等離子體中的載能離子作用
    發(fā)布時間：2019-08-08   

  • 濺射鍍膜過程！

    濺射產(chǎn)額隨入射離子能量變化的簡單示意圖，簡稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！顏色可以做到比較深，耐磨性能也很好，但其色調(diào)不夠純正，總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點相對較低，在濺射時易出現(xiàn)大的顆粒，使其光令度不易得到改善。濺射鍍膜
    發(fā)布時間：2019-07-30   

  • 磁控濺射卷繞鍍膜技術(shù)！

    磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射（直流、中頻、射頻）的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射卷繞鍍膜技術(shù)由于覆蓋領(lǐng)域廣泛，雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜技術(shù)起步晚，但發(fā)展極為
    發(fā)布時間：2019-07-22   

  • 磁控濺射電源昂貴!

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。磁控濺射電源昂
    發(fā)布時間：2019-07-18   

  • 濺射靶的安裝不受限制！

    濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用，并伴隨靶材原子及原子團簇的產(chǎn)生的過程。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！鍍膜設(shè)備決定鍍膜工藝過程的實現(xiàn)，鍍膜工藝促進鍍膜設(shè)備的升級，而高性能的計算機仿真設(shè)計給兩者的設(shè)計提供了強有力的支持。
    發(fā)布時間：2019-07-16   

  • 磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程！

    磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。磁控濺射鍍膜儀廠
    發(fā)布時間：2019-07-12   

  • 濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用！

    磁控濺射鍍膜儀濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用，并伴隨靶材原子及原子團簇的產(chǎn)生的過程。應(yīng)用較多的理論是級聯(lián)碰撞理論。SRIM等較成熟的模擬軟件已經(jīng)在模擬濺射過程中得到了廣泛應(yīng)用。鍍膜設(shè)備的工程設(shè)計、鍍膜工藝的設(shè)計及二者的
    發(fā)布時間：2019-07-09   

  • 磁控濺射包括很多種類!

    磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵〈趴?
    發(fā)布時間：2019-07-05   
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