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離子束濺射系統(tǒng)

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行業(yè)新聞

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  • 離子束濺射鍍膜與清洗多功能平臺

    離子束濺射系統(tǒng)與清洗多功能渠道是在真空環(huán)境中，使用離子轟擊靶材外表，使濺射出的粒子沉積在基片上，進而取得大面積納米至微米級厚度的均勻膜層。技術(shù)指標如下：1.極限真空度：≤6.0×10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后)；2.體系真空檢漏漏率：≤
    發(fā)布時間：2020-02-12   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展

    磁控濺射鍍膜儀鍍膜技能的開展近年來磁控濺射技能開展非常迅速，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。平衡磁控濺射：即傳統(tǒng)的磁控濺射技能，將永磁體或電磁線圈放到在靶材背后，在靶材外表會形成與電場方向垂直
    發(fā)布時間：2020-01-13   

  • 離子束濺射系統(tǒng)的實際應(yīng)用

    離子束濺射系統(tǒng)的實際應(yīng)用離子束濺射體系的運用規(guī)模首要能夠分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝修鍍膜。關(guān)于前者的鍍膜，有著延長其運用壽命的效果，關(guān)于后者則更多的是外表裝修。工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身外表進行離子鍍膜之
    發(fā)布時間：2020-01-08   

  • 磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術(shù)原理

    磁控濺射鍍膜儀有兩種，一種是中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備，另一種是直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)已逐漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)。它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜，因為它克服了陽極的消失并減少或消除了靶材的異常電弧放電。直流磁控濺射專用鍍膜設(shè)備
    發(fā)布時間：2020-01-02   

  • 磁控濺射鍍膜儀如何使用效率才高？

    在使用磁控濺射鍍膜儀的時候，使用一般的濺射方法，發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是非常的高。為了提高濺射的功率，加快工作的進度。那么該怎么加快這種設(shè)備的使用功率呢？這就需要添加氣體的理化功率。添加氣體的
    發(fā)布時間：2019-12-23   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)是一種物理氣相沉積（PVD）。普通的濺射方法可以用來制備多種材料，例如金屬，半導體，絕緣體，并且具有設(shè)備簡單，易于控制，涂覆面積大，附著力強的優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞
    發(fā)布時間：2019-12-11   

  • 磁控濺射系統(tǒng)有哪些種類？

    磁控濺射系統(tǒng)的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，并使它們電離產(chǎn)生Ar正離子和新電子。Ar離子在電場的作用下加速到陰極靶，并以高能轟擊靶表面，從而使靶材料濺射。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)私飧嘈畔ⅲ?
    發(fā)布時間：2019-12-09   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的多種類型

    磁控濺射系統(tǒng)包括許多類型，每個都有不同的工作原理和應(yīng)用對象。但是，它們有一個共同點：磁場和電場之間的相互作用導致電子在目標表面附近盤旋，從而增加了電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的可能性。產(chǎn)生的離子在電場的作用下撞擊靶表面并濺射靶材料。目標源分為平
    發(fā)布時間：2019-12-06   

  • 離子束濺射系統(tǒng)有哪些應(yīng)用？

    離子束濺射系統(tǒng)的應(yīng)用范圍可分為兩類，一類是工具涂層，另一類是裝飾涂層。對于前一種涂料，它具有延長使用壽命的作用，而對于后者，則是更多的表面裝飾。工具的涂層是工具的示例。硬質(zhì)合金制成的刀體表面經(jīng)過離子鍍膜后，表面的硬度和自潤滑性將得到顯著
    發(fā)布時間：2019-11-28   

  • 離子束濺射系統(tǒng)有哪些好處？

    無論哪種機械產(chǎn)品，如果要長時間使用并且在日常使用中具有出色的性能，則絕對是日常維護必不可少的。今天，我將討論日常維護和維護離子束濺射系統(tǒng)的好處。通常，根據(jù)說明進行維護的離子束濺射系統(tǒng)可以有效地延長離子束濺射系統(tǒng)的使用壽命。可以說，在離子
    發(fā)布時間：2019-11-25   

  • 磁控濺射系統(tǒng)新發(fā)展趨勢

    一般而言，增強系統(tǒng)某一部分的功能將帶來整體功能的增強，同時減少系統(tǒng)對某些部分的依賴，或者可以理解為：兩個必要因素該系統(tǒng)有機地合并為一個部分。建立一個全面的設(shè)計系統(tǒng)有助于研究系統(tǒng)各個部分的內(nèi)部邏輯關(guān)系。濺射技術(shù)的出現(xiàn)和應(yīng)用經(jīng)歷了許多階段。
    發(fā)布時間：2019-11-22   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的主要用途有哪些？

    磁控濺射系統(tǒng)的主要用途（1）各種功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。例如，在低溫下沉積氮化硅抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。（2）在裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，例如各種全反射膜和半透明膜，例如手機殼，鼠標等。（3）作為微電
    發(fā)布時間：2019-11-15   

  • 磁控濺射系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用

    磁控濺射系統(tǒng)已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高
    發(fā)布時間：2019-11-11   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的工作原理

    磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須
    發(fā)布時間：2019-11-09   

  • 磁控濺射鍍膜儀的用途

    為了解決陰極濺射的缺陷，人們在20世紀70年代開發(fā)出了磁控濺射鍍膜儀，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點，由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時原子
    發(fā)布時間：2019-11-07   

  • 電子束蒸發(fā)?基本內(nèi)容和優(yōu)點

    電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是一種基于鎢絲蒸發(fā)的真空蒸發(fā)方式。電子束是高速電子流。電子束蒸發(fā)是真空鍍膜技術(shù)中成熟且主要的鍍膜方法。解決了在電阻加熱模式下膜材料和蒸發(fā)源材料直接接觸的問題。中文
    發(fā)布時間：2019-10-31   

  • 真空熱壓爐結(jié)構(gòu)說明

    真空熱壓爐真空熱壓爐主要由爐體，爐門，加熱保溫和測溫系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，充氣系統(tǒng)，水冷卻系統(tǒng)，控制系統(tǒng)，液壓系統(tǒng)等組成。。真空熱壓爐是一種循環(huán)操作型，廣泛用于高溫高真空條件下的熱熔燒結(jié)，例如硬質(zhì)合金，功能陶瓷，粉末
    發(fā)布時間：2019-10-29   

  • 熱壓燒結(jié)功能設(shè)備

    熱壓燒結(jié)熱壓燒結(jié)是指將干粉填充到模具中并在從單軸方向加壓的同時進行加熱以完成成型和燒結(jié)的燒結(jié)方法。功能熱壓燒結(jié)特性：熱壓燒結(jié)是通過加熱和加壓同時進行的，粉末材料處于熱塑性狀態(tài)，這有利于顆粒的接觸擴散
    發(fā)布時間：2019-10-25   

  • 電子束蒸發(fā)源?的簡介和使用

    電子束蒸發(fā)源在真空鍍膜設(shè)備中,電子束蒸發(fā)源雖遠較電阻加熱式蒸發(fā)源復雜,但因其能蒸鍍難熔材料,膜層純度高,而優(yōu)于電阻加熱蒸發(fā)源。中文名電子束蒸發(fā)源外文名evaporatorwithelectronbeam基本內(nèi)容電子束加熱的蒸鍍源
    發(fā)布時間：2019-10-22   

  • 磁控濺射設(shè)備的主要用途

    磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更
    發(fā)布時間：2019-10-18   
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