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離子束濺射系統(tǒng)

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  • 淺談磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備濺射種類

    隨著如今科技的發(fā)達，人們對鍍膜的要求越來越高。為了滿足這一需要，不少廠家推出了磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備，這種設(shè)備對于改良鍍膜產(chǎn)品非常的有效，其能夠以高速、低溫、能夠濺射在任何材料上，是目前很多企業(yè)都有在使用的一種設(shè)備。磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的穩(wěn)定性，對所
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備技術(shù)應(yīng)用

    磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備在我國是屬于工業(yè)中的電鍍設(shè)備，其采用物理手段、化學(xué)手段對物體表面進行鍍膜，能夠讓物體具備耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等多種特性?？梢栽诤艽蟪潭壬咸岣弋a(chǎn)品質(zhì)量，延長使用周期。磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備市
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備綠色環(huán)保

    磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備能夠有效的提高產(chǎn)品的質(zhì)量，特別是使用在一些金屬材質(zhì)上的時候，其不僅能夠讓其具備絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。在目前的市場中磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備適用于電子、機械、建筑和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層市場的很大一部分份額。該設(shè)備
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的主要用途

    磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備在如今廣大行業(yè)中應(yīng)用非常的廣泛，那么其主要用途是什么呢？可能很多新用戶不是非常的了解，下面小編來給大家進行講解一下。磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備制備的濺射薄膜的特點磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的主要用途：1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射鍍膜儀設(shè)備鍍膜特征

    磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為目前的的表面處理設(shè)備，其作用是非常大的，不僅使用范圍廣泛，在使用上還能夠給人們帶來便利。磁控濺射鍍膜儀具有以下顯著特征：1.成膜厚度工藝參數(shù)精準(zhǔn)可控。通過調(diào)整爐內(nèi)氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數(shù)等，可方便地對
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備技術(shù)亮點

    磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備作為目前鍍膜工業(yè)中不可缺少的設(shè)備之一，其作用意義重大。目前很多汽車鍍膜產(chǎn)品都使用這種設(shè)備，可以說是深受廣大用戶的青睞。那么磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的亮點有哪些呢？磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備市場前景如何我們知道當(dāng)高速電子對不銹鋼、鈦、鎳、金、銀
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)備優(yōu)劣分析

    磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為工業(yè)中常見的一種的幽默設(shè)備，其種類較多，按照電源類型劃分可以分為直流磁控濺射、射頻磁控濺射、中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備。一般情況下磁控濺射鍍膜設(shè)備采用的電源都是直流高壓電源，基本上都在300到1000V之間。采用這種電源的優(yōu)
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢

    磁控濺射鍍膜儀設(shè)備發(fā)展至今，在工業(yè)方面顯的極為重要，其作用范圍廣泛，徹底的改變了傳統(tǒng)的鍍膜行業(yè)。使得鍍膜作業(yè)在生產(chǎn)質(zhì)量方面以及效率方面都得到了較大的提升。那么磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢呢？磁控濺射鍍膜儀設(shè)備主要有一下優(yōu)勢：1、沉積
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 主要的磁控濺射系統(tǒng)方式有哪些？

    磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。磁控濺射鍍
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 使用磁控濺射鍍膜儀設(shè)備對環(huán)境有什么要求嗎？

    由于要在特定條件下，因此磁控濺射鍍膜儀設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。制定的各種磁控濺射鍍膜儀的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(包括磁控濺射鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空電鍍機對環(huán)
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 磁控濺射鍍膜儀使用范圍

    磁控濺射鍍膜儀設(shè)備應(yīng)用廣泛，磁控濺射鍍膜主要有汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業(yè)；PVC、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷、TPU等。磁控濺射鍍膜設(shè)備跟真空磁控濺
    發(fā)布時間：2019-05-13   

  • 淺談離子束濺射系統(tǒng)應(yīng)用的幾個特點

    淺談離子束濺射系統(tǒng)應(yīng)用的幾個特點鍍層附著性能好普通真空鍍膜時，蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)維護的好處

    不管是什么機械產(chǎn)品，想要長久地使用下去，以及在日常使用中有著優(yōu)良的性能，對于其日常的保養(yǎng)維護肯定是必不可少的。今天給大家說說離子束濺射系統(tǒng)日常保養(yǎng)和維護的好處。一般根據(jù)說明書保養(yǎng)和維護的離子束濺射系統(tǒng)，能有效地延長離子束濺射系統(tǒng)的使用壽命，
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)的實際應(yīng)用

    離子束濺射系統(tǒng)的應(yīng)用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。對于前者的鍍膜，有著延長其使用壽命的作用，對于后者則更多的是表面裝飾。工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身表面進行離子鍍膜之后，其表面的硬度和自潤滑
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點

    真空鍍膜工藝分為多種，包括有真空磁控濺射鍍膜，蒸發(fā)鍍以及光學(xué)離子鍍。現(xiàn)在主要來講講磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點是什么，讓大家對這個電鍍工藝有所了解，對產(chǎn)品電鍍的選用工藝有所幫助。首先，真空磁控濺射鍍膜通常應(yīng)用在金屬產(chǎn)品上面，原理為在電場作用
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)的原理是稀薄氣體在反常輝光放電發(fā)生的等離子體在電場的效果下，對陰極靶材外表進行炮擊，把靶材外表的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有必定的動能，沿必定的方向射向基體外表，在基體表面構(gòu)成鍍層。濺射鍍膜開
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀靶材的主要方法

    由于磁控濺射鍍膜儀的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的要求。實現(xiàn)的途徑主要有以下幾種：a、靶材設(shè)計與改進b、增強磁控濺射陰極的磁場c、
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用

    近年來，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應(yīng)用，帶動控濺射沉積技術(shù)的飛速發(fā)展，在科學(xué)研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術(shù)的工藝過程及其發(fā)展情況，各種主要磁控濺射鍍膜儀的特點，并介紹磁控濺射技術(shù)在
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的區(qū)別

    真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子束濺射系統(tǒng)。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 濺鍍工藝的概念及分類

    濺鍍,通常指的是磁控濺鍍,屬于高速低溫濺鍍法。該工藝使用磁控濺射鍍膜儀要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空狀態(tài)充入惰性氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高壓直流電，由于輝光放電(g
    發(fā)布時間：2019-05-10   
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