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離子束濺射系統(tǒng)

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新聞資訊

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  • 磁控濺射設(shè)備的主要用途

    磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-18   

  • 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的原理是什么？

    濺射鍍膜的原理是在電場(chǎng)的作用下，由異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體被轟擊在陰極靶的表面上，并且靶表面上的分子，原子，離子和電子被濺射并濺起。所發(fā)射的顆粒具有一定的動(dòng)能，并且沿一定的方向被導(dǎo)向基板的外表面，以在基板的表面上形成鍍層。
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-16   

  • 磁控濺射主要用途有哪些？

    磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-14   

  • 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易！

    用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵R射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。等離子體濺射的基本
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-27   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的特點(diǎn)！

    磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射系統(tǒng)廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-25   

  • 磁控濺射鍍膜儀的優(yōu)點(diǎn)！

    磁控濺射技術(shù)在建材、裝飾、光學(xué)、防腐蝕、工磨具強(qiáng)化等領(lǐng)域得到比較廣泛的應(yīng)用,利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行光電、光熱、磁學(xué)、超導(dǎo)、介質(zhì)、催化等功能薄膜制備是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-19   

  • 磁控濺射鍍膜儀的作用！

    真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-18   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)！

    磁控濺射鍍膜技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)成為制備薄膜的主要技術(shù)之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區(qū)域的分布，顯著提高了薄膜的質(zhì)量。中頻濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展有效克服了反應(yīng)濺射過程中出現(xiàn)的打弧現(xiàn)象，減少了薄膜的結(jié)構(gòu)缺陷，明顯提高了薄膜的沉積速率。磁控
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-15   

  • 濺射鍍膜過程是什么？

    鍍膜織物膜基結(jié)合力與其表面鈦膜的耐磨性密切相關(guān)，鈦膜耐磨性越好，膜基結(jié)合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即為離線鍍膜玻璃，是在平板玻璃出廠后，再進(jìn)行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿足光學(xué)透射率、反射率、耐磨性能、抗化學(xué)腐蝕性能等理化指標(biāo)，還要保證
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-12   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用！

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用?
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-10   

  • 真空鍍膜主要是為了減少反射!

    磁控濺射技術(shù)是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術(shù)，該技術(shù)實(shí)現(xiàn)了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜，具有高速、低溫、低損傷的特點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵≌婵斟兡ぶ饕菫榱藴p少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都
    發(fā)布時(shí)間：2019-09-06   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理！

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵∮么趴匕性礊R射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這
    發(fā)布時(shí)間：2019-08-31   

  • 磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)！

    磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息儲(chǔ)存、液晶存儲(chǔ)、液晶顯示器、電子控制器件等，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、化學(xué)電鍍、金屬泡沫材料、裝飾用品等行業(yè)。磁控濺射系統(tǒng)哪家好？磁控濺射靶材的制備技術(shù)方法
    發(fā)布時(shí)間：2019-08-13   

  • 磁控靶源濺射金屬和合金很容易!

    在濺射鍍膜中盡量抑制油蒸汽的污染的必要性應(yīng)是無可爭(zhēng)議的。為了保證每個(gè)濺射室能在獨(dú)立的氣氛下工作,相鄰的濺射室之間應(yīng)采取氣氛隔離措施。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！等離子體濺射的基本過程是負(fù)極的靶材在位于其上的輝光等離子體中的載能離子作用
    發(fā)布時(shí)間：2019-08-08   

  • 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)！

    磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一，磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國(guó)防和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性，沉積速率，靶材利用率
    發(fā)布時(shí)間：2019-08-05   

  • 濺射鍍膜過程！

    濺射產(chǎn)額隨入射離子能量變化的簡(jiǎn)單示意圖，簡(jiǎn)稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！顏色可以做到比較深，耐磨性能也很好，但其色調(diào)不夠純正，總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點(diǎn)相對(duì)較低，在濺射時(shí)易出現(xiàn)大的顆粒，使其光令度不易得到改善。濺射鍍膜
    發(fā)布時(shí)間：2019-07-30   

  • 磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一！

    磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進(jìn)行多層貴金屬磁控濺鍍，通過對(duì)濺射的金屬層數(shù)和種類的設(shè)計(jì)達(dá)到光譜選擇的目的，從而實(shí)現(xiàn)可見光高透過。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵〈趴貫R射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一，磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電
    發(fā)布時(shí)間：2019-07-26   

  • 磁控濺射卷繞鍍膜技術(shù)！

    磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射（直流、中頻、射頻）的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進(jìn)行單層或多層鍍膜。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵〈趴貫R射卷繞鍍膜技術(shù)由于覆蓋領(lǐng)域廣泛，雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜技術(shù)起步晚，但發(fā)展極為
    發(fā)布時(shí)間：2019-07-22   

  • 磁控濺射電源昂貴!

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。磁控濺射電源昂
    發(fā)布時(shí)間：2019-07-18   

  • 濺射靶的安裝不受限制！

    濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用，并伴隨靶材原子及原子團(tuán)簇的產(chǎn)生的過程。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵″兡ぴO(shè)備決定鍍膜工藝過程的實(shí)現(xiàn)，鍍膜工藝促進(jìn)鍍膜設(shè)備的升級(jí)，而高性能的計(jì)算機(jī)仿真設(shè)計(jì)給兩者的設(shè)計(jì)提供了強(qiáng)有力的支持。
    發(fā)布時(shí)間：2019-07-16   
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