国产九九99久久精品影院_激情图片小说_久久久久久人妻精品一区二百内谢_疯狂的欧美乱大交_avtt东京热一区二区

離子束濺射系統(tǒng)

聯(lián)系我們

沈陽宇杰真空設(shè)備有限公司

電話：13555776988

網(wǎng)址：www.bjyhcx.cn

淘寶店鋪：https://shop311771663.taobao.com

地址：遼寧省沈陽市沈河區(qū)泉園街道

新聞資訊

您的當(dāng)前位置： 首 頁 >> 新聞資訊

  • 磁控濺射鍍膜儀的種類

    磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標(biāo)。但有一共同點(diǎn)：使用磁場與電場交互作用，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運(yùn)轉(zhuǎn)，然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場作用下撞向靶面然后濺射出靶材?！　“性捶制?
    發(fā)布時(shí)間：2020-02-18   

  • 離子束濺射鍍膜與清洗多功能平臺

    離子束濺射系統(tǒng)與清洗多功能渠道是在真空環(huán)境中，使用離子轟擊靶材外表，使濺射出的粒子沉積在基片上，進(jìn)而取得大面積納米至微米級厚度的均勻膜層。技術(shù)指標(biāo)如下：1.極限真空度：≤6.0×10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后)；2.體系真空檢漏漏率：≤
    發(fā)布時(shí)間：2020-02-12   

  • 磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展

    磁控濺射鍍膜儀鍍膜技能的開展近年來磁控濺射技能開展非常迅速，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。平衡磁控濺射：即傳統(tǒng)的磁控濺射技能，將永磁體或電磁線圈放到在靶材背后，在靶材外表會形成與電場方向垂直
    發(fā)布時(shí)間：2020-01-13   

  • 離子束濺射系統(tǒng)的實(shí)際應(yīng)用

    離子束濺射系統(tǒng)的實(shí)際應(yīng)用離子束濺射體系的運(yùn)用規(guī)模首要能夠分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝修鍍膜。關(guān)于前者的鍍膜，有著延長其運(yùn)用壽命的效果，關(guān)于后者則更多的是外表裝修。工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身外表進(jìn)行離子鍍膜之
    發(fā)布時(shí)間：2020-01-08   

  • 磁控濺射鍍膜機(jī)磁控濺射技術(shù)原理

    磁控濺射鍍膜儀有兩種，一種是中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備，另一種是直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)已逐漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)。它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜，因?yàn)樗朔岁枠O的消失并減少或消除了靶材的異常電弧放電。直流磁控濺射專用鍍膜設(shè)備
    發(fā)布時(shí)間：2020-01-02   

  • 磁控濺射鍍膜儀如何使用效率才高？

    在使用磁控濺射鍍膜儀的時(shí)候，使用一般的濺射方法，發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是非常的高。為了提高濺射的功率，加快工作的進(jìn)度。那么該怎么加快這種設(shè)備的使用功率呢？這就需要添加氣體的理化功率。添加氣體的
    發(fā)布時(shí)間：2019-12-23   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)是一種物理氣相沉積（PVD）。普通的濺射方法可以用來制備多種材料，例如金屬，半導(dǎo)體，絕緣體，并且具有設(shè)備簡單，易于控制，涂覆面積大，附著力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞
    發(fā)布時(shí)間：2019-12-11   

  • 磁控濺射系統(tǒng)有哪些種類？

    磁控濺射系統(tǒng)的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，并使它們電離產(chǎn)生Ar正離子和新電子。Ar離子在電場的作用下加速到陰極靶，并以高能轟擊靶表面，從而使靶材料濺射。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)私飧嘈畔ⅲ?
    發(fā)布時(shí)間：2019-12-09   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的多種類型

    磁控濺射系統(tǒng)包括許多類型，每個(gè)都有不同的工作原理和應(yīng)用對象。但是，它們有一個(gè)共同點(diǎn)：磁場和電場之間的相互作用導(dǎo)致電子在目標(biāo)表面附近盤旋，從而增加了電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的可能性。產(chǎn)生的離子在電場的作用下撞擊靶表面并濺射靶材料。目標(biāo)源分為平
    發(fā)布時(shí)間：2019-12-06   

  • 離子束濺射系統(tǒng)有哪些應(yīng)用？

    離子束濺射系統(tǒng)的應(yīng)用范圍可分為兩類，一類是工具涂層，另一類是裝飾涂層。對于前一種涂料，它具有延長使用壽命的作用，而對于后者，則是更多的表面裝飾。工具的涂層是工具的示例。硬質(zhì)合金制成的刀體表面經(jīng)過離子鍍膜后，表面的硬度和自潤滑性將得到顯著
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-28   

  • 離子束濺射系統(tǒng)有哪些好處？

    無論哪種機(jī)械產(chǎn)品，如果要長時(shí)間使用并且在日常使用中具有出色的性能，則絕對是日常維護(hù)必不可少的。今天，我將討論日常維護(hù)和維護(hù)離子束濺射系統(tǒng)的好處。通常，根據(jù)說明進(jìn)行維護(hù)的離子束濺射系統(tǒng)可以有效地延長離子束濺射系統(tǒng)的使用壽命。可以說，在離子
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-25   

  • 磁控濺射系統(tǒng)新發(fā)展趨勢

    一般而言，增強(qiáng)系統(tǒng)某一部分的功能將帶來整體功能的增強(qiáng)，同時(shí)減少系統(tǒng)對某些部分的依賴，或者可以理解為：兩個(gè)必要因素該系統(tǒng)有機(jī)地合并為一個(gè)部分。建立一個(gè)全面的設(shè)計(jì)系統(tǒng)有助于研究系統(tǒng)各個(gè)部分的內(nèi)部邏輯關(guān)系。濺射技術(shù)的出現(xiàn)和應(yīng)用經(jīng)歷了許多階段。
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-22   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的主要用途有哪些？

    磁控濺射系統(tǒng)的主要用途（1）各種功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。例如，在低溫下沉積氮化硅抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。（2）在裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，例如各種全反射膜和半透明膜，例如手機(jī)殼，鼠標(biāo)等。（3）作為微電
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-15   

  • 磁控濺射系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用

    磁控濺射系統(tǒng)已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域，還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-11   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的工作原理

    磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-09   

  • 磁控濺射鍍膜儀的用途

    為了解決陰極濺射的缺陷，人們在20世紀(jì)70年代開發(fā)出了磁控濺射鍍膜儀，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點(diǎn)，由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時(shí)原子
    發(fā)布時(shí)間：2019-11-07   

  • 電子束蒸發(fā)?基本內(nèi)容和優(yōu)點(diǎn)

    電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是一種基于鎢絲蒸發(fā)的真空蒸發(fā)方式。電子束是高速電子流。電子束蒸發(fā)是真空鍍膜技術(shù)中成熟且主要的鍍膜方法。解決了在電阻加熱模式下膜材料和蒸發(fā)源材料直接接觸的問題。中文
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-31   

  • 真空熱壓爐結(jié)構(gòu)說明

    真空熱壓爐真空熱壓爐主要由爐體，爐門，加熱保溫和測溫系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，充氣系統(tǒng)，水冷卻系統(tǒng)，控制系統(tǒng)，液壓系統(tǒng)等組成。。真空熱壓爐是一種循環(huán)操作型，廣泛用于高溫高真空條件下的熱熔燒結(jié)，例如硬質(zhì)合金，功能陶瓷，粉末
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-29   

  • 熱壓燒結(jié)功能設(shè)備

    熱壓燒結(jié)熱壓燒結(jié)是指將干粉填充到模具中并在從單軸方向加壓的同時(shí)進(jìn)行加熱以完成成型和燒結(jié)的燒結(jié)方法。功能熱壓燒結(jié)特性：熱壓燒結(jié)是通過加熱和加壓同時(shí)進(jìn)行的，粉末材料處于熱塑性狀態(tài)，這有利于顆粒的接觸擴(kuò)散
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-25   

  • 電子束蒸發(fā)源?的簡介和使用

    電子束蒸發(fā)源在真空鍍膜設(shè)備中,電子束蒸發(fā)源雖遠(yuǎn)較電阻加熱式蒸發(fā)源復(fù)雜,但因其能蒸鍍難熔材料,膜層純度高,而優(yōu)于電阻加熱蒸發(fā)源。中文名電子束蒸發(fā)源外文名evaporatorwithelectronbeam基本內(nèi)容電子束加熱的蒸鍍源
    發(fā)布時(shí)間：2019-10-22   
共141條 每頁20條 頁次：4/8
首頁 上一頁12345678下一頁 尾頁

沈陽宇杰真空設(shè)備有限公司

公司地址：遼寧省沈陽市沈河區(qū)泉園街道     聯(lián)系電話：13555776988

二維碼