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離子束濺射系統(tǒng)

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公司新聞

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  • 磁控濺射系統(tǒng)靶中毒的現(xiàn)象和解決辦法

    一：磁控濺射系統(tǒng)靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地
    發(fā)布時間：2022-11-21   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的環(huán)保特性

    磁控濺射系統(tǒng)能夠有效的提高產(chǎn)品的質(zhì)量，特別是使用在一些金屬材質(zhì)上的時候，其不僅能夠讓其具備絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。在目前的市場中磁控濺射系統(tǒng)設備適用于電子、機械、建筑和其他領域的金屬及介電涂層市場的很大一部分份額。該設備是對
    發(fā)布時間：2022-10-28   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的常見故障及解決辦法

    磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射系統(tǒng)通過在靶陰極外表引入磁場，使用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法1.無法起輝（1）直流電源毛病，查
    發(fā)布時間：2022-08-16   

  • 離子束濺射系統(tǒng)在鋁型材上的應用

    離子束濺射系統(tǒng)是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁的專用設備，它成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，電鍍設備可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設備。設備應用廣泛，主要有汽車反
    發(fā)布時間：2022-07-30   

  • 磁控濺射技術是常用的！

    磁控濺射技術是常用的！磁控濺射技術是常用的一種物理氣相沉積技術。磁控濺射鍍膜機可用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等優(yōu)點，因此被廣泛使用。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！可見光波段：陰極
    發(fā)布時間：2022-05-31   

  • 磁控濺射鍍膜儀的特點！

    磁控濺射鍍膜儀的特點！磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVap
    發(fā)布時間：2022-05-31   

  • 磁控濺射鍍膜儀的種類

    磁控濺射鍍膜儀的種類磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標。但有一共同點：使用磁場與電場交互作用，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運轉(zhuǎn)，然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場作用下撞向靶面然后濺射出靶材。靶源
    發(fā)布時間：2022-04-20   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理！

    磁控濺射鍍膜儀的原理！磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易
    發(fā)布時間：2022-04-19   

  • 磁控濺射鍍膜設備原理及發(fā)展起源

    磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開始的“濺射現(xiàn)象”說起。人們由起初發(fā)覺“濺射現(xiàn)象”發(fā)展至“濺射鍍膜”此間歷經(jīng)了相當長的發(fā)展時間，濺射現(xiàn)象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實驗就已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了。不過當時還只將此現(xiàn)象作為一種避免范疇的研究，認為這
    發(fā)布時間：2022-03-23   

  • 磁控濺射設備是在兩濺射的基礎上開發(fā)的

    磁控濺射設備對環(huán)境友好，耗材少，成膜均勻細密，與基體的結(jié)合力強。和傳統(tǒng)的鍍膜辦法比較，磁控濺射鍍膜設備具有許多的長處，如裝修效果好，金屬質(zhì)感強，易于操作等。特別在非金屬物件的應用上，有著傳統(tǒng)電鍍無法比擬的優(yōu)勢。磁控濺射體系的作業(yè)原理是電子在
    發(fā)布時間：2022-03-02   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術的發(fā)展及應用

    磁控濺射鍍膜儀技術的發(fā)展及應用濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層
    發(fā)布時間：2022-02-18   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術發(fā)展趨勢

    磁控濺射鍍膜儀技術發(fā)展趨勢等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下，靶材原子從靶材濺射出來，然后在襯底上凝聚形成薄膜；在此過程中靶材表面同時發(fā)射二次電子，這些電子在保持等離子體穩(wěn)定存在方面具有關鍵作用。濺射技
    發(fā)布時間：2022-02-10   

  • 淺談離子束濺射系統(tǒng)應用的幾個特點

    淺談離子束濺射系統(tǒng)應用的幾個特點鍍層附著性能好普通真空鍍膜時，蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)維護的好處

    不管是什么機械產(chǎn)品，想要長久地使用下去，以及在日常使用中有著優(yōu)良的性能，對于其日常的保養(yǎng)維護肯定是必不可少的。今天給大家說說離子束濺射系統(tǒng)日常保養(yǎng)和維護的好處。一般根據(jù)說明書保養(yǎng)和維護的離子束濺射系統(tǒng)，能有效地延長離子束濺射系統(tǒng)的使用壽命，
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)的實際應用

    離子束濺射系統(tǒng)的應用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。對于前者的鍍膜，有著延長其使用壽命的作用，對于后者則更多的是表面裝飾。工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身表面進行離子鍍膜之后，其表面的硬度和自潤滑
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點

    真空鍍膜工藝分為多種，包括有真空磁控濺射鍍膜，蒸發(fā)鍍以及光學離子鍍。現(xiàn)在主要來講講磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點是什么，讓大家對這個電鍍工藝有所了解，對產(chǎn)品電鍍的選用工藝有所幫助。首先，真空磁控濺射鍍膜通常應用在金屬產(chǎn)品上面，原理為在電場作用
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)的原理是稀薄氣體在反常輝光放電發(fā)生的等離子體在電場的效果下，對陰極靶材外表進行炮擊，把靶材外表的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有必定的動能，沿必定的方向射向基體外表，在基體表面構(gòu)成鍍層。濺射鍍膜開
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀靶材的主要方法

    由于磁控濺射鍍膜儀的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的要求。實現(xiàn)的途徑主要有以下幾種：a、靶材設計與改進b、增強磁控濺射陰極的磁場c、
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術的發(fā)展及應用

    近年來，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應用，帶動控濺射沉積技術的飛速發(fā)展，在科學研究領域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術的工藝過程及其發(fā)展情況，各種主要磁控濺射鍍膜儀的特點，并介紹磁控濺射技術在
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的區(qū)別

    真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子束濺射系統(tǒng)。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，
    發(fā)布時間：2019-05-10   
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