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磁控濺射鍍膜儀技術發(fā)展趨勢

發(fā)布日期：2022-02-10 作者：點擊：

等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下，靶材原子從靶材濺射出來，然后在襯底上凝聚形成薄膜；在此過程中靶材表面同時發(fā)射二次電子，這些電子在保持等離子體穩(wěn)定存在方面具有關鍵作用。濺射技術的出現(xiàn)和應用已經經歷了許多階段，起初，只是簡單的二極、三極放電濺射沉積;經過30多年的發(fā)展，磁控濺射技術已經發(fā)展成為制備超硬、耐磨、低摩擦系數(shù)、耐蝕、裝飾以及光學、電學等功能性薄膜的一種不可替代的方法。脈沖磁控濺射技術是該領域的另一項重大進展。

磁控濺射技術已經在我國的建材、裝飾、光學、防腐蝕、工磨具強化等領域得到比較廣泛的應用，利用磁控濺射技術進行光電、光熱、磁學、超導、介質、催化等功能薄膜制備是當前研究的熱點。但是，關于非平衡磁控濺射技術尤其是新型沉積工藝，國內了解、研究的單位還很少。防腐蝕、高硬度薄膜在提高石油機械的性能、壽命等方面能夠發(fā)揮重要作用，低摩擦系數(shù)、潤滑、防泥包、催化、光學等功能薄膜應用于石化行業(yè)時有望大幅度提高工作效率、產品品質以及環(huán)保、安全性等。伴隨新型磁控濺射技術及工藝的發(fā)展、應用，石油、化工行業(yè)對提高生產效率、環(huán)保、安全性等需求的增加，磁控濺射技術對石油、化工領域的重要性將不斷加大。但是，目前我國石化行業(yè)對磁控濺射技術尚缺乏足夠的了解、應用，也沒有從事該方面工作的專門機構。為此，呼吁相關方面應加強對磁控濺射技術的支持。

矩形磁控籠式卷繞濺射