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磁控濺射是物理氣相堆積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射系統(tǒng)通過在靶陰極外表引入磁場(chǎng)，使用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？
磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法
1.無法起輝
（1）直流電源毛病，查看直流電源；
（2）氬氣進(jìn)氣量小，查看氬氣流量計(jì)或加大氬氣進(jìn)氣量；
（3）真空室清潔度不行，清潔真空室；
（4）靶材絕緣度不行，查看靶是否與地短路，在通水的情況下，對(duì)地電阻應(yīng)該在 50kΩ以上；
（5）磁場(chǎng)強(qiáng)度不行，查看永磁體是否消磁；
（6）真空度太差，查看真空體系。
2.輝光不穩(wěn)
（1）電壓電流不穩(wěn)，查看電源；
（2）真空室壓力不穩(wěn)，查看氬氣進(jìn)氣量及真空體系；
（3）電纜毛病，查看電纜是否連接良好。
3.成膜質(zhì)量差
（1）基片外表清潔度差，清潔基片外表；
（2）真空室清潔度差，清潔真空室；
（3）基片溫度過大或過小，查看溫控體系，校準(zhǔn)熱電偶；
（4）真空室壓力過大，查看真空體系；
（5）濺射功率設(shè)置不當(dāng)，查看直流電源，設(shè)置何事的設(shè)定功率。
4.濺射速率低
（1）氬氣進(jìn)氣量過大或過小，調(diào)查輝光色彩可以判定氬氣是過大仍是過小，據(jù)此調(diào)整氬氣進(jìn)氣量；檢修流量計(jì)；
（2）靶材過熱，查看冷卻水流量；
（3）查看永磁體是否消磁。
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