您好，歡迎光臨沈陽宇杰真空設(shè)備有限公司！
集真空儀器裝置研發(fā)、生產(chǎn)、銷售
服務(wù)為一體的高科技企業(yè)
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沈陽宇杰真空設(shè)備有限公司
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離子束濺射系統(tǒng)與清洗多功能渠道是在真空環(huán)境中，使用離子轟擊靶材外表，使濺射出的粒子沉積在基片上，進而取得大面積納米至微米級厚度的均勻膜層。技術(shù)指標(biāo)如下：
1. 極限真空度：≤6.0×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；
2. 體系真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
3. 體系短時間暴露大氣并充枯燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達到6.0×10-4 Pa；
4. 停泵關(guān)機12小時后真空度：≤5 Pa；
5. 濺射真空室尺度Ф 450mm ×350mm，電動上掀蓋結(jié)構(gòu)，可內(nèi)烘烤100～ 150℃ ，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，外表進行特別工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封；
6. 磁控濺射靶材尺度為Φ3英寸，2路500W射頻濺射，1路500W直流濺射，射頻濺射與直流濺射兼容，可完成單靶獨立，多靶輪番、組合共濺等作業(yè)形式，靶內(nèi)有水冷，有電動操控擋板組件及靶屏蔽罩。三個靶可共同折向下面的樣品中心，靶與樣品間隔90～ 110mm 可調(diào)；
7.可鍍基片尺度為Φ 50mm ，基片加熱溫度 600°C ± 1°C ，由熱電偶閉環(huán)反饋操控；基片可連續(xù)反轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5～10轉(zhuǎn)/分；基片可以加200V負偏壓；配1套手動操控樣品擋板組件及2個樣品托；
8.鍍膜厚度不均勻性≤5%；
9. 對泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護體系。
10. 鍍膜自動操控。計算機操控體系完成對靶擋板、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫等操控。
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