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磁控濺射技術是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術，該技術實現(xiàn)了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜，具有高速、低溫、低損傷的特點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>
真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。鏡頭的真空鍍膜是根據(jù)光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。
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