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直流磁控濺射鍍膜儀設備優(yōu)劣分析

發(fā)布日期：2019-05-13 作者：點擊：

磁控濺射鍍膜儀設備作為工業(yè)中常見的一種的幽默設備，其種類較多，按照電源類型劃分可以分為直流磁控濺射、射頻磁控濺射、中頻磁控濺射鍍膜設備。

一般情況下磁控濺射鍍膜設備采用的電源都是直流高壓電源，基本上都在300到1000V之間。采用這種電源的優(yōu)勢就是濺射速率快、造價低、在后期保養(yǎng)維護上方便。但是使用這種電源只能濺射金屬靶材，并且在濺射過程中，如果靶材是絕緣體，隨著濺射的深入會聚集大量的電荷，從而導致濺射無法繼續(xù)。因此對于金屬靶材通常情況下都是采用直流磁控濺射鍍膜設備來完成。這主要是因為其造價便宜，結構簡單，是目前眾多鍍膜廠家都在使用的一種。

磁控濺射鍍膜設備市場前景如何

磁控濺射鍍膜設備是一種復雜的設備，其不僅要保證設備的工藝，在生產(chǎn)過程中還要確保其穩(wěn)定性和可重復使用性。用戶在使用這種設備的時候，務必要掌握影響設備的各個因素，只有這樣在磁控濺射鍍膜設備出現(xiàn)故障的時候才能夠迅速的解決問題。在這里我們建議用戶經(jīng)常性的對設備進行維護和保養(yǎng)，這對于精密的設備來講是非常有必要的。

磁控濺射鍍膜儀