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離子束濺射系統(tǒng)

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DZS-500S雙室電子束與蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)

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DZS-500S雙室電子束與蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)


  • DZS-500S雙室電子束與蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)

  • 詳細(xì)介紹

深圳大學(xué)

采購時間:2018年6月22日

設(shè)備名稱:YJ-ZF350A高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

技術(shù)指標(biāo):

.系統(tǒng)概況

該系統(tǒng)為單室圓形上翻蓋結(jié)構(gòu)三源無機熱蒸發(fā)系統(tǒng),主要用來生長金屬薄膜的研究工作,具體如下:

1、系統(tǒng)采用單室圓形上翻蓋結(jié)構(gòu)。

2、樣品片臺可旋轉(zhuǎn),0~30轉(zhuǎn)/分 連續(xù)可調(diào)。

3、樣品尺寸:直徑100mm,樣品托;

4、生長室預(yù)留2個可配備石英晶振探頭安裝口;

5、生長室放置3個熱阻蒸發(fā)舟,配備蒸發(fā)電源2套,蒸發(fā)電源帶轉(zhuǎn)接功能即一個蒸發(fā)電源可以通過轉(zhuǎn)接控制兩個熱阻蒸發(fā)舟,可實現(xiàn)兩源共蒸。

6、生長室真空獲得系統(tǒng)采用國產(chǎn)分子泵(600L/S)+機械泵(TRP-36 8L/S)進(jìn)行抽氣;配有旁抽管路,提高單機效率。

7、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用國內(nèi)最先進(jìn)電化學(xué)拋光鈍化處理工藝。

二、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)性能

生長室極限真空度≤8×10-5 Pa;抽速:40分鐘可達(dá)到8×10-4 Pa

1、真空室腔體組件:1套

真空室腔體組件尺寸:圓型立式真空室,尺寸約為Φ350×H475,D型前開門結(jié)構(gòu),真空室設(shè)計采用高真空設(shè)計,壁掛防污板,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用噴玻璃丸+化學(xué)電解拋光鈍化處理新工藝。

真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口如下:

1、真空室上封頭法蘭接口:1個(接樣品組件);

2、CF150法蘭接口:1個(分子泵接口);

3、CF35法蘭接口:6個(接高真空電離規(guī)管、膜厚儀、旁抽、烘烤照明等);

4、CF16法蘭接口:4個(進(jìn)氣管路、充氣閥、1個備用);

5、KF16法蘭接口:1個(接低真空電阻規(guī)管);

6、KF40法蘭接口:1個(接旁抽管路);

7、門板有1個RF100帶玻璃擋板觀察窗。

8、熱阻蒸發(fā)電極接口: 3套無機水冷電極;

9.蒸發(fā)源擋板接口:3個手動;

2、熱阻蒸發(fā)舟及電源:2套

熱阻蒸發(fā)電源2臺(功率3.5kw),手動切換滿足3支蒸發(fā)舟蒸發(fā)要求;

熱阻蒸發(fā)器根據(jù)蒸發(fā)材料配套(鎢舟、鉭舟、鉬舟);

蒸發(fā)源擋板:3套手動控制。

3、樣品臺:1套

3.1 基片尺寸:100mm基片托,蒸發(fā)距離220mm-300mm可調(diào)

4、真空本底抽氣與真空測量:-1套

4.1、復(fù)合分子泵:FF-600分子泵(北京)1套

4.2、機械泵與電磁閥: 抽速8升∕秒(飛越) 1套

4.3、分子泵與機械泵連接的金屬軟管:(沈陽) 1套

4.4、復(fù)合數(shù)顯真空測量規(guī)與計(睿寶ZDF-5227): 1套

熱偶規(guī):(KF16快卸法蘭) 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa    1只

電離規(guī):(CF35刀口法蘭) 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa    1只

4.5、放氣閥及充氣閥: 2只 (沈陽) 用于真空室解除及真空充氣使用

4.6、CF150手動插板閥:(北京川北)用于隔斷分子泵與生長室

4.7、其它閥門:CF35旁抽角閥 1個(沈陽) DN40電磁截止閥(帕納)1個

5、電控與電源:1套

5.1、總控電源及樣品轉(zhuǎn)動電源:,0~30轉(zhuǎn)/分 連續(xù)可調(diào)。1套

6、真空室照明裝置:1套

7、真空室預(yù)留檢漏口和預(yù)留備用口若干:1套

關(guān)鍵詞:磁控濺射鍍膜儀廠家,磁控濺射系統(tǒng)廠家,離子束濺射系統(tǒng)廠家

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