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離子束濺射系統(tǒng)

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高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

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高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)


  • 高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

  • 詳細(xì)介紹

哈爾濱工業(yè)大學(xué)

采購(gòu)時(shí)間:2018年7月12日

設(shè)備名稱:高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

技術(shù)指標(biāo):

一、系統(tǒng)概況

該系統(tǒng)為單室方型結(jié)構(gòu)無機(jī)熱蒸發(fā)系統(tǒng),與手套箱鏈接成一體,主要用來生長(zhǎng)金屬薄膜的研究工作,真空腔體尺寸500*450*450具體如下:

1、系統(tǒng)采用單室方型結(jié)構(gòu)。

2、樣品片臺(tái)可旋轉(zhuǎn),0~30轉(zhuǎn)/分 連續(xù)可調(diào)。

3、樣品尺寸:直徑90mm,樣品托;

4、生長(zhǎng)室預(yù)留2個(gè)可配備石英晶振探頭安裝口;

5、生長(zhǎng)室放置3個(gè)熱阻蒸發(fā)舟,配備蒸發(fā)電源2套,蒸發(fā)電源帶轉(zhuǎn)接功能即一個(gè)蒸發(fā)電源可以通過轉(zhuǎn)接控制兩個(gè)熱阻蒸發(fā)舟,可實(shí)現(xiàn)兩源共蒸。

6、生長(zhǎng)室真空獲得系統(tǒng)采用國(guó)產(chǎn)分子泵(600L/S)+機(jī)械泵(TRP-36 8L/S)進(jìn)行抽氣;配有旁抽管路,提高單機(jī)效率。

7、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用國(guó)內(nèi)最先進(jìn)電化學(xué)拋光鈍化處理工藝。

二、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)性能

生長(zhǎng)室極限真空度≤6×10-5 Pa;

抽速:40分鐘可達(dá)到6×10-4 Pa

漏率:停機(jī)12小時(shí)≤10Pa

1、真空室腔體組件:1套

真空室腔體組件尺寸:方型立式真空室,尺寸約為Φ500×H450,前后開門結(jié)構(gòu),后開門接手套箱,前面放樣操作方便,真空室設(shè)計(jì)采用高真空設(shè)計(jì),壁掛防污板,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用噴玻璃丸+化學(xué)電解拋光鈍化處理新工藝。

真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口如下:

1、真空室上封頭法蘭接口:1個(gè)(接樣品組件);

2、CF150法蘭接口:1個(gè)(分子泵接口);

3、CF35法蘭接口:7個(gè)(接高真空電離規(guī)管、旁抽、烘烤照明等);

4、CF16法蘭接口:5個(gè)(進(jìn)氣管路、充氣閥、1個(gè)備用);

5、CF16法蘭接口:1個(gè)(接低真空電阻規(guī)管);

6、DF40法蘭接口:1個(gè)(接旁抽管路);

7、門板有2個(gè)RF100帶玻璃擋板觀察窗。

8、熱阻蒸發(fā)電極接口: 3套無機(jī)水冷電極;

2、熱阻蒸發(fā)舟及電源:2套

熱阻蒸發(fā)電源2臺(tái)(功率3.5kw),手動(dòng)切換滿足3支蒸發(fā)舟蒸發(fā)要求;

熱阻蒸發(fā)器根據(jù)蒸發(fā)材料配套(鎢舟、鉭舟、鉬舟);

蒸發(fā)源之間設(shè)有防溫度干擾裝置

蒸發(fā)源擋板:3套手動(dòng)控制。

3、樣品臺(tái):1套

3.1 基片尺寸:90mm基片托,蒸發(fā)距離280mm

3.2基臺(tái)加熱爐盤,爐溫可加至600攝氏度

4、真空本底抽氣與真空測(cè)量:1套

4.1、復(fù)合分子泵:FF-600分子泵(北京)1套

4.2、機(jī)械泵與電磁閥: 抽速8升∕秒(浙江飛越與北京川北) 1套

4.3、分子泵與機(jī)械泵連接的金屬軟管:(沈陽) 1套

4.4、復(fù)合數(shù)顯真空測(cè)量規(guī)與計(jì)(睿寶): 1套

電阻規(guī):(CF16快卸法蘭) 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa    1只

電離規(guī):(CF35刀口法蘭) 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa    1只

4.5、放氣閥及充氣閥: 2只 (沈陽) 用于真空室解除及真空充氣使用

4.6、CF150手動(dòng)插板閥:(北京)用于隔斷分子泵與生長(zhǎng)室

4.7、其它閥門:CF35旁抽角閥 1個(gè)(沈陽) DN40電磁截止閥(上海)1個(gè)

5、電控與電源:1套

5.1、無機(jī)蒸發(fā)電源:3.5KW可調(diào)直流穩(wěn)流電源2套,10V、350A

5.2、總控電源及樣品轉(zhuǎn)動(dòng)電源:0~30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。1套

5.3、控制電源一套(機(jī)械泵、電磁閥、轉(zhuǎn)動(dòng)等)

7、真空室照明裝置:1套

9、真空室預(yù)留檢漏口和預(yù)留備用口若干

關(guān)鍵詞:磁控濺射鍍膜儀廠家,磁控濺射系統(tǒng)廠家,離子束濺射系統(tǒng)廠家

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