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離子束濺射系統(tǒng)

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YJ-ZF350A高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

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YJ-ZF350A高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)


  • YJ-ZF350A高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

  • 詳細(xì)介紹

哈爾濱工業(yè)大學(xué)

采購時(shí)間:2018年10月12日

設(shè)備名稱:DZS-500S雙室電子束與蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)

技術(shù)指標(biāo):

一、電子束系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)

1、極限真空度:≤8.0×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停機(jī)12小時(shí)≤5Pa.

3、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?,再開始抽氣,45分鐘可達(dá)到6.6×10-4Pa;

4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組成;

1、真空室組件:1套

真空室為U型箱體活開門結(jié)構(gòu),尺寸為500mm×500mm×600mm,四壁水道冷卻,壁掛防污板,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進(jìn)行特殊工藝拋光電解處理,接口采用金屬無氧銅墊圈密封或氟橡膠圈密封;

真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口如下:

1.1、RF200法蘭接口:1個(gè)(接旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)組件);

1.2、RF100法蘭接口:1個(gè)(觀察窗口);

1.3、CF16法蘭接口:1個(gè)(進(jìn)氣接口);

1.4、CF200法蘭接口:1個(gè)(接分子泵);

1.5、CF35法蘭接口:5個(gè)(接電離規(guī)管、膜厚儀、旁抽角閥、2個(gè)備用);

1.6、CF16法蘭接口:8個(gè)(進(jìn)氣接口、烘烤照明、充氣閥、蒸發(fā)電極擋板直接轉(zhuǎn)軸);

1.7、ZC16法蘭接口:1個(gè)(接低真空規(guī)管);

2、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái):1套 

2.1、基片尺寸:可放置5″基片;

2.2、基片加熱最高溫度600°C±1°C,由熱電偶閉環(huán)反饋控制;

2.3、基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分,電機(jī)驅(qū)動(dòng)磁耦合機(jī)構(gòu)控制;

2.4、手動(dòng)控制樣品擋板組件:1套;

2.5、樣品托:2個(gè);                                        

3、電子槍及電源:1套 

3.1、270°E型電子槍及高壓電源,電子槍功率0—8 KW可調(diào)(成都興南);

3.2、電子槍陽極電壓:6kv、8kv;

3.3、電子束可二維掃描調(diào)節(jié),最大掃描正負(fù)15mm(X,Y),備有遙控盒,可手持遙控操作掃描;

3.4、水冷式坩堝:六穴坩堝,每個(gè)容量約為11ml,電動(dòng)切換;單穴尺寸:Φ30mm ×Φ22mm ×22mm(圓臺(tái)型);

3.5、可控制坩堝位置變化;

3.6、由手動(dòng)驅(qū)動(dòng)坩堝擋板;  

3.7、具有高壓滅弧自動(dòng)復(fù)位功能; 

4、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀(上海泰堯):1套 

4.1、監(jiān)測膜厚顯示范圍:0~99μ9999?;

4.2、厚度分辨率:1?;

4.3、速率顯示分辨率:0~9999.9 ?;

4.4、控制精度:1 ?;

4.5、監(jiān)測時(shí)間顯示范圍:1分~99小時(shí);

5、工作氣路:2路

5.1、200SCCM質(zhì)量流量控制器、充氣閥CF16、管路、接頭等:1路(北京)

5.2、管路、接頭等:1路;

5.3、充氣閥D6、管路、接頭等:1路(充入氮?dú)饣虼髿猓?/span>

6、抽氣機(jī)組及閥門、管道:1套

6.1、復(fù)合分子泵及變頻控制電源:1臺(tái)(抽速1200升/秒,北京KYKY);    

6.2、直聯(lián)機(jī)械泵:1臺(tái)(抽速8升/秒,飛越); 

6.3、KF40電磁壓差閥:1臺(tái)(上海);

6.4、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管:1套 ;

6.5、機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路、KF40電磁隔斷閥及角閥CF35:1套 ;

6.6、CF200-B閘板閥:1臺(tái)(用于分子泵與真空室隔離);

7、窗口及法蘭接口部件:1套

7.1、RF100磁力旋轉(zhuǎn)觀察窗擋板:1個(gè);

7.2、CF16陶瓷封接兩芯引線法蘭:2個(gè)(照明及內(nèi)烘烤引線、備用引線);

7.3、盲法蘭CF16:2個(gè);CF35:2個(gè);

7.4、CF16單芯陶瓷封接引線法蘭:1個(gè)(高壓放電電極);

8、安裝機(jī)臺(tái)架組件:1套

優(yōu)質(zhì)方鋼鋁型材,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng);

9、真空測量及電控系統(tǒng):1套

9.1、電源機(jī)柜:1臺(tái)(含供電電源,有斷電保護(hù)功能);

9.2、控制電源:1臺(tái)(為機(jī)械泵、電磁閥等提供電源);

9.3、樣品加熱控溫電源:1套(可實(shí)現(xiàn)程序控溫);

9.4、電機(jī)控制電源:1套;

9.5、加熱烘烤及照明電源:1套;

9.6、電阻蒸發(fā)電源:1套;

9.7、寬量程數(shù)顯真空計(jì)ZDF-5227(成都):1套;測量范圍:(1.0x10 5Pa~1.0x10-5Pa); 

9.8、E型電子槍電源:1套:(成都)

9.9、200SCCM質(zhì)量流量顯示器:1套;

9.10、分子泵控制電源:1套;

10、備件:1套

10.1、無氧銅密封墊圈及管路

CF16:3個(gè);CF35:2個(gè); CF200:2個(gè);¢6mm卡套:4套; 

10.2、氟橡膠圈:¢200mm:1個(gè);¢100mm:4個(gè);

10.3、石英晶震片:10個(gè);

10.4、碘鎢燈:2個(gè);

10.5、樣品加熱絲:1套;

10.6、¢100mm鉛玻璃:1塊;

10.7、電子槍燈絲:10個(gè);

10.8、熱蒸發(fā)坩鍋:2個(gè);

10.9、不銹鋼標(biāo)件:M3、M4各3個(gè);

10.10、電器相關(guān)的保險(xiǎn)絲:各5個(gè)。

二、熱蒸發(fā)系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)

該系統(tǒng)為單室圓形上翻蓋結(jié)構(gòu)三源無機(jī)熱蒸發(fā)系統(tǒng),主要用來生長金屬薄膜的研究工作,具體如下:

1.1系統(tǒng)采用單室圓形上翻蓋結(jié)構(gòu)。

1.2樣品尺寸:直徑120mm,樣品托;

1.3生長室放置3個(gè)熱阻蒸發(fā)舟,配備蒸發(fā)電源1套,蒸發(fā)電源帶轉(zhuǎn)接功能。

1.4真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用國內(nèi)最先進(jìn)電化學(xué)拋光鈍化處理工藝。

2、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)性能

2.1、真空室腔體組件:1套

真空室腔體組件尺寸:圓型立式真空室,尺寸約為Φ350×H475,真空室設(shè)計(jì)采用高真空設(shè)計(jì),壁掛防污板,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面處理采用噴玻璃丸+化學(xué)電解拋光鈍化處理新工藝。

左側(cè)開CF150刀口,放置CF150閘板閥與電子束室相連,前面配有觀察窗,后面配有照明燈,右側(cè)留CF35口放置磁力傳遞桿,實(shí)現(xiàn)兩室相互交接。

真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口如下:

2.1.1、真空室上封頭法蘭接口:1個(gè)(接樣品組件);

2.1.2、CF150法蘭接口:1個(gè)(分子泵接口,兩室共用一個(gè)分子泵);

2.1.3、CF35法蘭接口:6個(gè)(接高真空電離規(guī)管、膜厚儀、旁抽、烘烤照明等);

2.1.4、CF16法蘭接口:2個(gè)(充氣管路、放氣管路);

2.1.5、KF16法蘭接口:1個(gè)(接低真空電阻規(guī)管);

2.1.6、門板有1個(gè)RF100帶玻璃擋板觀察窗。

2.1.7、熱阻蒸發(fā)電極接口: 3套,無機(jī)水冷電極;

2.1.8、蒸發(fā)源擋板接口:2個(gè),手動(dòng);

3.1、電阻蒸發(fā)源:1套 

3.1.1、蒸發(fā)水冷電極3根,組成2組蒸發(fā)舟,蒸發(fā)控制電源兩套,其中一套可相互切換,蒸發(fā)電源電壓5-10V,電流300A,最大輸出功率3Kw;

3.1.2、蒸發(fā)源手動(dòng)控制擋板:2套; 

4.1、樣品臺(tái):1套

4.1.1 基片尺寸:120mm基片托,。

5.1、清洗離子源:1套

5.11、清洗樣品離子源:

6.1、真空本底抽氣與真空測量:1套

6.1.1、放氣閥及充氣閥: 2只 (沈陽) 用于真空室解除及真空充氣使用。

6.1.2、其它閥門:CF35旁抽角閥 1個(gè)(沈陽) DN40電磁截止閥(川北)1個(gè)

7.1、真空室照明裝置:1套

8.1、真空室預(yù)留檢漏口和預(yù)留備用口若干:1套

關(guān)鍵詞:磁控濺射鍍膜儀廠家,磁控濺射系統(tǒng)廠家,離子束濺射系統(tǒng)廠家

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